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北京市(东城区、西城区、崇文区、宣武区、朝阳区、丰台区、石景山区、海淀区、门头沟区 昌平区、大兴区)
天津市(和平区、河东区、河西区、南开区、河北区、红桥区、塘沽区、东丽区、西青区、)
石家庄市(桥东区、长安区、裕华区、桥西区、新华区。)
保定市(莲池区、竞秀区) 廊坊市(安次区、广阳区,固安)
太原市(迎泽区,万柏林区,杏花岭区,小店区,尖草坪区。)
大同市(城区、南郊区、新荣区)
榆林市(榆阳区,横山区)朝阳市(双塔区、龙城区)
南京市(鼓楼区、玄武区、建邺区、秦淮区、栖霞区、雨花台区、浦口区、区、江宁区、溧水区、高淳区)
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金融界2024年12月31日消息,国家知识产权局信息显示,甬矽电子(宁波)股份有限公司取得一项名为“薄膜沉积装置”的专利,授权公告号 CN 222226536 U,申请日期为 2024 年 5 月。
专利摘要显示,一种薄膜沉积装置,涉及半导体工艺设备技术领域。
该薄膜沉积装置包括晶圆平台和加热平台,晶圆平台靠近加热平台的一面设有容置槽,加热平台可拆卸连接于容置槽内,且加热平台与晶圆平台相向设置的一面呈面接触,加热平台用于对晶圆平台加热。
该薄膜沉积装置能够在加热装置发生损坏时便于维修,能够降低薄膜沉积装置的维修成本。
本文源自:金融界作者:情报员
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